稀土抛光粉
禾诺提供如下P8、P12、P18三个系列的稀土抛光粉,主要适用于光学元件的球面及晶体等的加工。
P8系列
P8-1
D50:0.5-0.9um,
D100≤4um
稀土总量(TREO)≥99%,
氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 99.5%
P8-2
D50:0.6-1.0um,
D100≤4um
稀土总量(TREO)≥94%,
氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 64%
P8-3
D50:0.6-1.0um,
D100≤4um
稀土总量(TREO)≥94%,
氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 64%
应用领域
可适用于光学元件的球面加工以及晶体等,如:球面镜头,透镜,晶体等;
可适用于平面高抛,如光盘抛光,高精度要求的玻璃扫光和视窗玻璃等。
P12系列 |
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P12-1 |
D50:1.0-1.4um, D100≤6um |
稀土总量(TREO)≥99%, 氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 99.5% |
P12-2 |
D50:1.0-1.4um, D100≤6um |
稀土总量(TREO)≥94%, 氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 64% |
P12-3 |
D50:1.0-1.4um, D100≤6um |
稀土总量(TREO)≥94%, 氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 64% |
应用领域 |
可适用于光学元件的球面加工以及晶体等,如:球面镜头,透镜,晶体等; 可适用于平面高抛,如盖板扫光,钟表玻璃,TFT减薄等。 |
P18系列 |
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P18-1 |
D50:1.5-1.9um, D100≤9um |
稀土总量(TREO)≥99%, 氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 99.5% |
P18-2 |
D50:1.5-1.9um, D100≤9um |
稀土总量(TREO)≥94%, 氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 64% |
P18-3 |
D50:1.5-1.9um, D100≤9um |
稀土总量(TREO)≥94%, 氧化铈占稀土总量(CeO2/TREO)≥ 64% |
应用领域 |
可适用于光学元件的球面加工以及晶体等,如:球面镜头,石英晶体等; 可适用于平面抛光,如视窗玻璃抛光,汽车后视镜抛光。 |